高纯深紫外镀膜用HfO
基本信息
| 申请号 | CN202110842276.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113563069A | 公开（公告）日 | 2021-10-29 |
| 申请公布号 | CN113563069A | 申请公布日 | 2021-10-29 |
| 分类号 | C04B35/48（2006.01）I;C04B35/64（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/30（2006.01）I | 分类 | 水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕; |
| 发明人 | 徐川;陈牧 | 申请（专利权）人 | 巨玻固能（苏州）薄膜材料有限公司 |
| 代理机构 | 苏州谨和知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 许冬莹 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市苏州工业园区江浦路41号3幢103室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及一种高纯深紫外镀膜用HfO2材料的烧结提纯工艺，该工艺包括：提供HfO2原料、Hf粉原料、分散剂和添加剂，并混合均匀得到粘稠状混合物，各组分的比例为80‑90:0‑20:1‑10:1‑10；干燥；过筛；制成坯料；脱脂并干燥；进行真空烧结，升温至1900‑2400℃并保温200‑300min，然后自然冷却到室温，在原料中添加Hf，保证材料中的Hf和Zr都处于亚氧化的状态，将烧结温度提高到ZrO2‑x相熔点以上且低于HfO2‑x相的熔点，在该温度下HfO2‑x相依然为固体，液化的Zr元素逐渐流出材料，富集在材料表面，并逐渐挥发，以实现Zr/Hf分离；同时高温烧结后的HfO2结构更致密，更利于材料排出杂质，提纯得到的HfO2材料中的Zr含量小于0.1％，明显提高HfO2材料的深紫外光学性能和抗激光损伤性能。 |
