一种平面波导基片的光栅加工方法及系统

基本信息

申请号 CN202010514144.4 申请日 -
公开(公告)号 CN113960714A 公开(公告)日 2022-01-21
申请公布号 CN113960714A 申请公布日 2022-01-21
分类号 G02B6/13(2006.01)I;G02B6/124(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I;B23K26/046(2014.01)I;B23K26/70(2014.01)I 分类 光学;
发明人 黄沃彬;张建平;谢建毫;刘东昌 申请(专利权)人 深圳伊讯科技有限公司
代理机构 北京英特普罗知识产权代理有限公司 代理人 邓小玲
地址 201306上海市浦东新区南汇新城镇环湖西二路888号C楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种平面波导基片的光栅加工方法,包括:将平面波导基片放置于载物台上,调节所述载物台以使飞秒激光器发射的激光聚焦于所述平面波导基片的波导芯区的中心位置;获取所述飞秒激光器的激光重复频率,根据所述激光重复频率确定所述载物台的移动速度,并控制所述载物台以确定的所述移动速度进行移动;根据所述激光重复频率控制所述飞秒激光器发射激光;通过偏振控制片对所述激光进行功率调节,得到加工激光;采用逐点加工方式,通过所述加工激光对所述波导芯区进行光栅刻写。本发明的有益效果在于:可灵活刻写不同长度和中心波长的光栅,效率高,加工方便。