开放式MRI成像系统用磁体结构

基本信息

申请号 CN201920506618.3 申请日 -
公开(公告)号 CN210982706U 公开(公告)日 2020-07-10
申请公布号 CN210982706U 申请公布日 2020-07-10
分类号 G01R33/383(2006.01)I;A61B5/055(2006.01)I 分类 -
发明人 沈伟俊 申请(专利权)人 杭州佩伟拓超导磁体技术有限公司
代理机构 杭州中平专利事务所有限公司 代理人 翟中平;翟俊琳
地址 311100浙江省杭州市余杭区杭州经济开发区泰极路3号2幢502C-47
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种适合介入式扫描、诊断,治疗、实时监视的开放式MRI成像系统用磁体结构,MRI磁体由多块磁性单元构成有惯通缺口的拱形圆。优点:一是适合介入式诊断,实时监视,如脑手术(脑血管,神经阻断),脑植入治疗;二是磁体短,小;三是外漏磁场低,安装场地要求低,5高斯线:<1米;四是采用了永磁材料结构,系统维护成本低。