开放式MRI成像系统用磁体结构
基本信息
申请号 | CN201920506618.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN210982706U | 公开(公告)日 | 2020-07-10 |
申请公布号 | CN210982706U | 申请公布日 | 2020-07-10 |
分类号 | G01R33/383(2006.01)I;A61B5/055(2006.01)I | 分类 | - |
发明人 | 沈伟俊 | 申请(专利权)人 | 杭州佩伟拓超导磁体技术有限公司 |
代理机构 | 杭州中平专利事务所有限公司 | 代理人 | 翟中平;翟俊琳 |
地址 | 311100浙江省杭州市余杭区杭州经济开发区泰极路3号2幢502C-47 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及一种适合介入式扫描、诊断,治疗、实时监视的开放式MRI成像系统用磁体结构,MRI磁体由多块磁性单元构成有惯通缺口的拱形圆。优点:一是适合介入式诊断,实时监视,如脑手术(脑血管,神经阻断),脑植入治疗;二是磁体短,小;三是外漏磁场低,安装场地要求低,5高斯线:<1米;四是采用了永磁材料结构,系统维护成本低。 |
