一种石墨盘及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202110578410.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113277883A | 公开（公告）日 | 2021-08-20 |
| 申请公布号 | CN113277883A | 申请公布日 | 2021-08-20 |
| 分类号 | C04B41/88（2006.01）I;C04B41/87（2006.01）I | 分类 | 水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕; |
| 发明人 | 刘恒昌;王硕;高熙隆;刘雪珍;黄珊珊;黄辉廉;周伟秀 | 申请（专利权）人 | 中山德华芯片技术有限公司 |
| 代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 伍传松 |
| 地址 | 528437广东省中山市火炬开发区火炬路22号之二第3-4层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种石墨盘及其制备方法和应用，涉及低压MOCVD（石墨盘）外延生长领域，尤其涉及一种减少预反应的新方法。本发明所述石墨盘的表层有一层改性薄膜，所述改性薄膜热辐射系数低于0.2W/（kg·K）。本发明通过对石墨盘进行改性，降低了预反应区所在区域的气体温度，从而达到减缓预反应发生的效果。 |
