一种激光成像曝光机提高台面吸板真空度装置
基本信息
申请号 | CN202022743278.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN213843754U | 公开(公告)日 | 2021-07-30 |
申请公布号 | CN213843754U | 申请公布日 | 2021-07-30 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
发明人 | 刘斌 | 申请(专利权)人 | 天津普林电路股份有限公司 |
代理机构 | 北京沁优知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李蓓蕾 |
地址 | 300000天津市滨海新区自贸试验区(空港经济区)航海路53号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供一种激光成像曝光机提高台面吸板真空度装置,包括粘接固定连接在曝光机台面顶端的密封装置,所述密封装置用于密封住台面上的真空孔,所述密封装置包括若干阻气垫片,各阻气垫片之间为粘接连接,所述粘接连接使用胶带粘接实现,所述阻气垫片均为透明基片。本实用新型提高了激光成像曝光机真空度,防止出现曝光解析不良或对位偏位等问题。 |
