一种基于变去除函数大气等离子体的熔石英抛光方法
基本信息
| 申请号 | CN202011238585.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112456807A | 公开（公告）日 | 2021-03-09 |
| 申请公布号 | CN112456807A | 申请公布日 | 2021-03-09 |
| 分类号 | C03C15/00(2006.01)I;G06F17/15(2006.01)I | 分类 | 玻璃；矿棉或渣棉; |
| 发明人 | 彭冰;徐学科;顿爱欢;吴伦哲;王哲 | 申请（专利权）人 | 上海恒益光学精密机械有限公司 |
| 代理机构 | 上海恒慧知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 张宁展 |
| 地址 | 201800上海市嘉定区清河路390号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及硅基光学元件表面超光滑精密加工技术领域，具体涉及一种基于变去除函数大气等离子体的熔石英抛光方法。以解决现有大气等离子体加工过程中去除函数非线性变化导致加工收敛率不高的问题。先进行前期变去除函数提取实验，再对拟合出的变去除函数与理论去除量进行运算得出加工所需的驻留时间，采用大气等离子体设备进行精修抛光，最终完成了熔石英光学元件的高精密、高效率加工。 |
