光敏树脂组合物、图案形成方法及基板保护用覆膜的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010232187.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113448171A | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN113448171A | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | G03F7/075（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I;G03F7/11（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 柳善;吴贤珠 | 申请（专利权）人 | 苏州深通新材料有限公司 |
| 代理机构 | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 | 代理人 | 魏彦;金相允 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区12幢401-102 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供负型光敏树脂组合物、利用该组合物的图案的形成方法及基板保护用覆膜的制备方法，负型光敏树脂组合物包含：含有以下述化学式1及2表示的重复单位的光敏树脂、官能单体及光引发剂。本发明的负型光敏树脂组合物包含具有呫吨骨架的硅氧烷树脂，从而具有耐热性、基板硬度及基板密合性等优异的物性。[化学式1][化学式2] |
