一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备
基本信息
| 申请号 | CN202110368740.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113071122A | 公开（公告）日 | 2021-07-06 |
| 申请公布号 | CN113071122A | 申请公布日 | 2021-07-06 |
| 分类号 | B29D7/01（2006.01）I | 分类 | 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工; |
| 发明人 | 李刚;程凡宝;孙艳斌;杨彪;李明勇;李宇航;刘小东;杨建鹏;李彬彬;孙楠楠 | 申请（专利权）人 | 山东胜通光学材料科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 257000山东省东营市垦利经济开发区园兴路169号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备，包括模头、输料管线、计量挤出机、过滤器、混合容器、直流电机、电子元件、控制系统、计量泵和聚酯铸片。该一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备，其生产出来的基膜产品具有优良的光学表观性能，保护膜表面无异物、白点、蹭伤、折痕等缺陷，方便在不去除保护膜的情况下进行偏光片表观测试，同时防止各种缺陷对TAC膜的损伤和污染，耐候性及持粘力稳定性，经数日或更久剥离力增长不明显，易于撕去且被保护表面无残胶，无留影，保护膜对被保护表面具有良好的粘附性能，在材料搬运或加工过程中，保护膜不会起翘，脱落，抗静电处理，带电量低，防止静电吸附灰尘，污染偏光片表面。 |
