一种抛光液及对碳化硅晶体的抛光方法
基本信息
| 申请号 | CN201811038755.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108949036A | 公开（公告）日 | 2018-12-07 |
| 申请公布号 | CN108949036A | 申请公布日 | 2018-12-07 |
| 分类号 | C09G1/02 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 吴月英 | 申请（专利权）人 | 北京保利世达科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 北京保利世达科技有限公司 |
| 地址 | 102500 北京市房山区燕山岗南路东一巷6号C座218房间 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种抛光液及对碳化硅晶体的抛光方法。一种抛光液，包括以下成分：按重量百分比计，纳米级多晶金刚石6‑10％，碱性硅溶胶75‑87％，硅烷偶联剂为1‑2％，抗结晶剂1‑3％，氧化剂1‑2％，双亲性有机物余量。本发明的抛光液具有良好的润湿铺展性能、较高的软质层去除速率、不易结晶等优点，因此用于碳化硅的抛光解决了抛光速率低以及抛光效果差的问题，此外，该抛光液与粗磨研磨液和精磨研磨液组合使用后，能够实现高速率、高平整度、高光洁度、低粗糙度的抛光效果。 |
