磁控溅射镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN201821984019.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209537612U | 公开（公告）日 | 2019-10-25 |
| 申请公布号 | CN209537612U | 申请公布日 | 2019-10-25 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I; C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 徐旻生; 庄炳河; 王应斌; 龚文志; 张亮; 李永杰 | 申请（专利权）人 | 爱发科（中国）投资有限公司 |
| 代理机构 | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 爱发科豪威光电薄膜科技（深圳）有限公司;爱发科（中国）投资有限公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道科技北二路28号豪威大楼二楼A区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于磁控溅射技术领域，尤其涉及一种磁控溅射镀膜机，包括热温镀膜装置、冷温镀膜装置、供料卸料装置和中转搬送装置。该磁控溅射镀膜机可以在‑100～800℃的温度范围内选择任意温度进行磁控溅射，从而极大地提高待镀膜物料磁控溅射的作业温度范围，以及使待镀膜物料多次往返于热温镀膜装置100和冷温镀膜装置200之间进行镀膜作业，这样，极大地丰富了了成膜环境的多样性，有利于企业、大学或科研机构探索、挖掘磁性材料薄膜、超晶格薄膜等的特性。 |
