蒸发源机构以及溅射镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201922098942.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211199385U | 公开（公告）日 | 2020-08-07 |
| 申请公布号 | CN211199385U | 申请公布日 | 2020-08-07 |
| 分类号 | C23C14/34;C23C14/24 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 徐旻生;庄炳河;王应斌;龚文志;张亮;李永杰 | 申请（专利权）人 | 爱发科（中国）投资有限公司 |
| 代理机构 | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 爱发科豪威光电薄膜科技（深圳）有限公司;爱发科（中国）投资有限公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道科技北二路28号豪威大楼二楼A区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸发源机构以及溅射镀膜设备，其中，蒸发源机构包括蒸发源装置、药液滴灌装置和同步加药装置，蒸发源装置至少设有两个，包括加药阀、具有蒸发腔的蒸发箱以及置于蒸发腔内的坩埚，蒸发箱包于其侧壁开设与蒸发腔连通且与真空镀膜室对接的出料口，以及于其上壁开设与蒸发腔连通的加药口，药液滴灌装置至少设有两个，包括具有出药口的引药管以及用于向引药管供应药液的供药结构，其中，各出药口分别用于将药液引落至一存药腔，同步加药装置用于一并驱动各出药口上下运动，以使各出药口分别经一加药口进出一蒸发腔。各蒸发源装置能够同时完成加药作业，极大地提高了加药作业效率。 |
