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晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置

基本信息

申请号 CN201710574789.5 申请日 -
公开（公告）号 CN107228828A 公开（公告）日 2017-10-03
申请公布号 CN107228828A 申请公布日 2017-10-03
分类号 G01N21/21(2006.01)I;G01N21/45(2006.01)I 分类 测量；测试;
发明人 井旭 申请（专利权）人 济南快谱光电技术有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 250000 山东省济南市高新区会展西路88号1号楼402室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属涉及一种晶体光学均匀性的测试方法及其检测装置。包括以下有效步骤：a、通过对选择的相干光源进行准直和起偏处理，得到检测所需的检测光源；b、将检测光源发出的入射光入射到经过检测性抛光处理的待测晶体上，调节入射光偏振方向与晶体轴向的位置关系，使晶体轴向垂直于入射光的轴向；c、经过待测晶体的入射光进过进行检偏，实现偏振干涉成像；d、对检偏后的偏正干涉像进行接收显示，进而得到该晶轴方向下的晶体光学折射率均匀性。本发明利用利用晶体不同轴向的偏光干涉成像的原理，通过分析和比对，对晶体器件的毛坯进行初检，检出光学均匀性合格的产品直接进入精密加工工序，避免成品出现光学均匀性的不合格品。