双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201822048032.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209493624U | 公开（公告）日 | 2019-10-15 |
| 申请公布号 | CN209493624U | 申请公布日 | 2019-10-15 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 钟洪伟;刘奎;陈年庚;赵娟;刘子毓 | 申请（专利权）人 | 北京启迪清洁能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 北京华业阳光新能源有限公司;北京启迪清洁能源科技有限公司 |
| 地址 | 100080 北京市海淀区成府路45号智造大街A座305 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，是在第一镀膜室、第二镀膜室以及室外装卸工位中都布置有拨盘、轨道以及集热管小车，第一镀膜室布置有直流磁控溅射靶，第二镀膜室同时布置有直流磁控溅射靶与中频磁控溅射靶，在第一镀膜室与第二镀膜室之间设置真空通道，第一镀膜室与室外装卸工位之间设置连接通道。使用的时候，第一镀膜室一方面作为过渡室使用，用于在第二镀膜室以及室外装卸工位之间交换集热管小车，另一方面可以完成金属红外反射涂层镀膜，而第二镀膜室可以一直保持在真空状态，并完成选择性吸收涂层镀膜以及减反层镀膜，如此周转使用，能够减小设备规模的前提下，尽量提高生产效率与镀膜质量。 |
