双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN201811489707.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111286706A | 公开（公告）日 | 2020-06-16 |
| 申请公布号 | CN111286706A | 申请公布日 | 2020-06-16 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 钟洪伟;刘奎;陈年庚;赵娟;刘子毓 | 申请（专利权）人 | 北京启迪清洁能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 北京华业阳光新能源有限公司;北京启迪清洁能源科技有限公司 |
| 地址 | 100080北京市海淀区成府路45号智造大街A座305 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜方法，具有第一镀膜室、第二镀膜室、室外装卸工位以及集热管小车，所述第一镀膜室的真空腔体内设有若干根直流磁控溅射靶，所述第二镀膜室设有数根直流磁控溅射靶与数根中频磁控溅射靶；通过在第一镀膜室完成红外反射涂层镀膜工艺，在第二镀膜室完成选择性吸收涂层镀膜工艺，周而复始地高效完成镀膜工作；在工作过程中，第二镀膜室始终保持真空，而第一镀膜室在破真空时使用干燥空气来填充，有效避免了湿空气、污染物影响镀膜质量。 |
