一种基于P电极条形阵列的深紫外LED芯片
基本信息
申请号 | CN201920856700.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN209896093U | 公开(公告)日 | 2020-01-03 |
申请公布号 | CN209896093U | 申请公布日 | 2020-01-03 |
分类号 | H01L33/20(2010.01); H01L33/38(2010.01) | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 张会雪; 罗红波; 徐盛海; 张爽; 刘源; 戴江南; 陈长清 | 申请(专利权)人 | 湖北深紫科技有限公司 |
代理机构 | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 黄君军 |
地址 | 436000 湖北省鄂州市梧桐湖新区凤凰大道特1号华中科技大学鄂州工业技术研究院大楼S209室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种基于P电极条形阵列的深紫外LED芯片,包括蓝宝石衬底层、AlN层、N型AlGaN层、N电极层、P型GaN层和P电极层,其中,所述AlN层、所述N型AlGaN层、所述N电极层、所述P型GaN层和所述P电极层依次沉积于所述蓝宝石衬底层表面;所述P型GaN层包括复数个平行设置的第一条状结构,所述P电极层包括复数个平行设置的第二条状结构,所述第二条状结构设置于所述第一条状结构远离所述N电极层一侧。本实用新型通过将P型GaN层和P电极层设置成复数个平行设置的条状结构,有效增加侧壁出光面积,从而实现光萃取效率的提高;同时,该结构设计使电极线宽变窄,电流扩展距离变短,更有利于N‑P电极之间的电流扩展,减少电流拥堵效应。 |
