离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用专利查询专利号|摘要-满商公司网

离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用

基本信息

申请号	CN202010210625.6	申请日	-
公开（公告）号	CN113433807A	公开（公告）日	2021-09-24
申请公布号	CN113433807A	申请公布日	2021-09-24
分类号	G03F7/42（2006.01）I	分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
发明人	王溯;蒋闯;马伟	申请（专利权）人	上海新阳半导体材料股份有限公司
代理机构	上海弼兴律师事务所	代理人	王卫彬;陈卓
地址	201616上海市松江区思贤路3600号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用。该离子注入光刻胶清洗液，其由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：0.5％‑15％的氧化剂、10％‑40％的有机碱、0.005％‑6％的螯合剂、0.005％‑6％的缓蚀剂、0.1％‑10％的羧酸铵、0.005％‑1.5％的表面活性剂、0.005％‑5％的有机硅、0.005％‑2.5％的聚季铵盐和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比；其中，所述的表面活性剂为EO‑PO聚合物L62；所述的有机硅为巯丙基三甲氧基硅烷；所述的聚季铵盐为聚季铵盐‑16。本发明的离子注入光刻胶清洗液对多种金属和电介质缓蚀性强，清洗效果佳。