一种镀镍装置
基本信息
申请号 | CN202120747635.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215103550U | 公开(公告)日 | 2021-12-10 |
申请公布号 | CN215103550U | 申请公布日 | 2021-12-10 |
分类号 | C23C18/36(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 蔡锦波;周晓明 | 申请(专利权)人 | 马鞍山市槟城电子有限公司 |
代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
地址 | 243000安徽省马鞍山市经济技术开发区湖西南路2189号5栋1号厂房南面 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种镀镍装置,所述的镀镍装置包括镀镍槽,镀镍槽内注入镀液;镀镍槽为双层结构,包括内壳和外壳,内壳与外壳之间形成空腔,内壳上遍布通孔,空腔内设置有加热模块;壳体外接循环管路,循环管路的入口端接入外壳底部并与空腔连通,循环管路的出口端伸入镀液内,循环管路上设置有过滤泵,镀镍槽内的镀液经空腔进入循环管路,由过滤泵过滤后回流;内壳底部设置有曝气装置,曝气装置外接氮气源。本实用新型在循环管路的基础上,增设了曝气装置,通过曝气装置向镀锡槽底部鼓入氮气,使得镀液在氮气的鼓泡作用下搅动翻滚,便于回流镀液的快速扩散、融入和混合,确保了镀锡槽内各处镀液温度和浓度的均匀性;保持镀液的工作稳定性。 |
