整平剂、电镀液及其应用

基本信息

申请号 CN202011602731.5 申请日 -
公开(公告)号 CN112795962A 公开(公告)日 2021-05-14
申请公布号 CN112795962A 申请公布日 2021-05-14
分类号 C25D3/38;C25D7/00 分类 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕;
发明人 邹浩斌;高健;席道林;万会勇;肖定军;刘彬云;谭超力;杨彦章 申请(专利权)人 广东东硕科技有限公司
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 代理人 刘阳
地址 510280 广东省广州市白云区北太路1633号广州民营科技园科兴路2号绿地汇创广场1栋26层2621房
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及整平剂、电镀液及其应用,其中,整平剂包括功效成分,功效成分为含醚键的伯胺化合物、仲胺化合物和二环氧化合物的反应产物。该整平剂被用于电铜镀液中时,在常规的电流密度范围内,既能确保盲孔填镀满足常规要求,也能使面铜厚度控制在较小的范围内。不仅能够提高生产效率,还可以降低工艺成本,并且与精细线路的制作具有优异的兼容性,降低后续制作精细线路的蚀刻难度。