一种双面曝光装置
基本信息
| 申请号 | CN202021500143.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213023938U | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN213023938U | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 张雷;章卫平 | 申请（专利权）人 | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州国诚专利代理有限公司 | 代理人 | 王丽 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种双面曝光装置，其结构合理，能够对基板进行双面曝光，同时曝光精度高，减少了生产线设备投入，占地面积小，基座上顺序设置第一工作台、第一对位系统、第一曝光系统、第二工作台、第二对位系统、第二曝光系统，第一工作台和第二工作平台分别包括多轴运动系统以及转移机构，转移机构能够抓取或释放基板，第一工作台和第二工作平台分别可滑动地安装在直线位移装置上，第一工作台抓取基板后在直线位移装置上移动，经过第一对位系统、第一曝光系统对基板的第一表面进行对位、曝光，第二工作平台从第一工作平台上转移基板后，第二工作台在直线位移装置上移动，经过第二对位系统、第二曝光系统对基板的第二表面进行对位、曝光。 |
