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一种双面ITO产品的制作方法和双面ITO产品

基本信息

申请号 CN201810168762.0 申请日 -
公开（公告）号 CN108491103B 公开（公告）日 2021-09-17
申请公布号 CN108491103B 申请公布日 2021-09-17
分类号 G06F3/041（2006.01）I;G06F3/044（2006.01）I;H01B13/00（2006.01）I;C23F1/02（2006.01）I;C23F1/16（2006.01）I;C23F1/26（2006.01）I 分类 计算；推算；计数;
发明人 罗志猛 申请（专利权）人 信利半导体有限公司
代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司 代理人 邓义华;陈卫
地址 516600广东省汕尾市东冲路北段工业区
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种双面ITO产品的制作方法和双面ITO产品。该制作方法包括：步骤1：提供一ITO基板：步骤2：对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀，制作第一图案，形成第一ITO功能层；步骤3：在所述第一ITO功能层上制作Mo合金层，在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层；步骤4：采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀，制作第二图案，形成第二ITO功能层；步骤5：采用Mo刻蚀液去除所述Mo合金层。该制作方法不会在ITO功能层上残留保护材料，也能够防止ITO图案被划伤等问题，还有利于工艺的自动化和高世代产线的量产。