一种低线性膨胀系数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法

基本信息

申请号 CN202111211740.6 申请日 -
公开(公告)号 CN114106323A 公开(公告)日 2022-03-01
申请公布号 CN114106323A 申请公布日 2022-03-01
分类号 C08G73/10(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I 分类 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物;
发明人 孙善卫;胡程鹏;潘成 申请(专利权)人 安徽国风新材料股份有限公司
代理机构 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 代理人 干桂花
地址 230000安徽省合肥市高新区铭传路1000号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种低线性膨胀系数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法,涉及聚酰亚胺薄膜技术领域,是将二元胺单体Ⅰ和二元酐单体Ⅰ进行缩聚反应后,再与三元胺单体、二元胺单体Ⅱ、二元酐单体Ⅱ进行缩聚反应得到聚酰胺酸树脂,再经流延成膜、酰亚胺化处理后即得聚酰亚胺薄膜。本发明通过调节三元胺单体的用量形成交联结构,以及通过反应单体的加料顺序形成嵌段型共聚物,并采用原位聚合法使得混合均匀,从而达到降低CTE的效果,制备的PI薄膜的CTE在10‑20ppm/K。