一种刀片真空溅镀时防止尖端放电膜

基本信息

申请号 CN202121983794.X 申请日 -
公开(公告)号 CN215713335U 公开(公告)日 2022-02-01
申请公布号 CN215713335U 申请公布日 2022-02-01
分类号 C23C14/34(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 陈增力;颜玮;王斌;王广军;李晓星 申请(专利权)人 海珀(滁州)材料科技有限公司
代理机构 合肥左心专利代理事务所(普通合伙) 代理人 吴朝
地址 239000安徽省滁州市镇江路5号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种刀片真空溅镀时防止尖端放电膜,包括缓冲层、插接块和固定块,还包括连接机构,所述连接机构具体由插接块、圆柱块、固定块、固定槽、粘接块合导电块组成,所述插接块表面固定连接有圆柱块,所述固定块表面固定连接有固定槽,所述插接块和固定块表面均固定连接有粘接层,所述固定槽和圆柱块表面均安装有导电块,通过双层结构让整体防护能力更强,并且通过不粘层让整体有更好的抗污能力,整体保护能力较强,可以大范围适用于真空溅镀机防护用。