一种超声喷印法制备三碘化铯锡薄膜的方法
基本信息
申请号 | CN201210382798.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN103706539B | 公开(公告)日 | 2015-04-29 |
申请公布号 | CN103706539B | 申请公布日 | 2015-04-29 |
分类号 | B05D1/02(2006.01)I;B05D1/36(2006.01)I;H01L31/032(2006.01)I | 分类 | 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕; |
发明人 | 沈凯;陈琢;任宇航 | 申请(专利权)人 | 浙江尚颉投资管理有限公司 |
代理机构 | 北京市盛峰律师事务所 | 代理人 | 浙江尚颉光电科技有限公司;尚越光电科技股份有限公司 |
地址 | 311121 浙江省杭州市余杭区五常街道丰岭路25号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种超声喷印法制备三碘化铯锡薄膜的方法,包括以下步骤:S11,配置CsI溶液,所述CsI溶液的浓度为5wt%至50wt%;S12,配置SnCl2溶液,所述SnCl2溶液的浓度为10wt%至80wt%;S13,利用超声喷印系统将所述CsI溶液喷印到基底上;S14,利用超声喷印系统将所述SnCl2溶液喷印到所述基底上;S15,加热所述基底至干燥,在所述基底上形成三碘化铯锡薄膜。本发明超声喷印法制备三碘化铯锡(CsSnI3)薄膜的方法,在玻璃、陶瓷和金属箔等大面积基底上合成薄膜,不需要基于真空手段就能合成CsSnI3薄膜的方法,该合成或沉积方法是基于水基前驱体溶液的超声喷印沉积,可显著降低成本,使这种薄膜作为新的太阳能电池吸收材料将得到广泛的应用。 |
