一种超声喷印法制备三碘化铯锡薄膜的方法

基本信息

申请号 CN201210382798.1 申请日 -
公开(公告)号 CN103706539A 公开(公告)日 2014-04-09
申请公布号 CN103706539A 申请公布日 2014-04-09
分类号 B05D1/02(2006.01)I;B05D1/36(2006.01)I;H01L31/032(2006.01)I 分类 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
发明人 沈凯;陈琢;任宇航 申请(专利权)人 浙江尚颉投资管理有限公司
代理机构 北京市盛峰律师事务所 代理人 浙江尚颉光电科技有限公司;尚越光电科技股份有限公司
地址 311121 浙江省杭州市余杭区五常街道丰岭路25号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种超声喷印法制备三碘化铯锡薄膜的方法,包括以下步骤:S11,配置CsI溶液,所述CsI溶液的浓度为5wt%至50wt%;S12,配置SnCl2溶液,所述SnCl2溶液的浓度为10wt%至80wt%;S13,利用超声喷印系统将所述CsI溶液喷印到基底上;S14,利用超声喷印系统将所述SnCl2溶液喷印到所述基底上;S15,加热所述基底至干燥,在所述基底上形成三碘化铯锡薄膜。本发明超声喷印法制备三碘化铯锡(CsSnI3)薄膜的方法,在玻璃、陶瓷和金属箔等大面积基底上合成薄膜,不需要基于真空手段就能合成CsSnI3薄膜的方法,该合成或沉积方法是基于水基前驱体溶液的超声喷印沉积,可显著降低成本,使这种薄膜作为新的太阳能电池吸收材料将得到广泛的应用。