核壳结构量子点、其制备方法以及应用
基本信息
申请号 | CN201911278118.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112980428A | 公开(公告)日 | 2021-06-18 |
申请公布号 | CN112980428A | 申请公布日 | 2021-06-18 |
分类号 | C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00;H01L31/0352;H01L51/50 | 分类 | 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用; |
发明人 | 高静;谢阳腊;乔培胜;刘俊娜;苏叶华 | 申请(专利权)人 | 浙江纳晶科技有限公司 |
代理机构 | 宁波聚禾专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 糜婧;顾赛喜 |
地址 | 324004 浙江省衢州市柯城区高新片区海棠路12号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请公开了核壳结构量子点、其制备方法以及应用。其中,核壳结构量子点包括第一核壳量子点,其包括量子点核以及包覆在量子点核外的至少两内壳层,第一核壳量子点各层材料的禁带宽度沿径向由内向外依次增大;以及直接包覆在第一核壳量子点外的第一外壳层,第一外壳层材料的禁带宽度小于第一核壳量子点最外层材料的禁带宽度。第一核壳量子点的禁带宽度沿径向由内向外依次增大,也即壳材料的禁带宽度大于核材料的禁带宽度,电子和空穴被禁锢在核中,壳材料物理地把光学活性中心核与周围介质分开,可以提高量子点的抗水、氧稳定性;此外,在第一核壳量子点外生长了禁带宽度小的第一外壳层,可以有效抵抗光漂白,从而提升量子效率。 |
