高磷组分砷磷化镓光电阴极
基本信息
申请号 | CN201621414767.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN206364046U | 公开(公告)日 | 2017-07-28 |
申请公布号 | CN206364046U | 申请公布日 | 2017-07-28 |
分类号 | H01L33/12(2010.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I;H01J1/34(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 王晓晖;刘佩;陈宇;张业民 | 申请(专利权)人 | 天津中环新光科技有限公司 |
代理机构 | 天津三元专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 天津中环新光科技有限公司 |
地址 | 300385 天津市西青区津港公路微电子工业区毕升道2号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种高磷组分砷磷化镓光电阴极,设有:砷化镓(GaAs)衬底、砷化镓(GaAs)衬底上设置有砷化镓(GaAs)缓冲层,砷化镓(GaAs)缓冲层上设置有组分渐变缓冲层,组分渐变缓冲层上设置有变In组分的磷化铝镓铟的应力调制层,应力调制层上设置有P型目标砷磷化镓(GaAsxP1‑x)光子发射层,目标P型砷磷化镓(GaAsxP1‑x)光子发射层上设置有P型砷化镓(GaAs)盖帽层。本实用新型不仅降低了生长目标砷磷化镓(GaAsP)光子发射层时存在的较大应力,解决了高磷组分生长厚度较厚时出现裂纹现象的问题,而且,有效地提高了高磷组分外延层的生长厚度和晶体的质量,有利于后续光电阴极器件的制备过程。 |
