便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘
基本信息
| 申请号 | CN201520931104.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205223345U | 公开（公告）日 | 2016-05-11 |
| 申请公布号 | CN205223345U | 申请公布日 | 2016-05-11 |
| 分类号 | C23C16/18(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 丁国建;张业民;刘佩;陈宇;张荣勤;宋京 | 申请（专利权）人 | 天津中环新光科技有限公司 |
| 代理机构 | 天津三元专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 天津中环新光科技有限公司 |
| 地址 | 300385 天津市西青区津港公路微电子工业区毕升道2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘，设有：石墨盘，该石墨盘的表面设有数个凹槽，凹槽之外的地方覆盖有预埋层，预埋层上覆盖有沉积层。本实用新型便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘，其能够将金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘进行干湿法处理，使处理后的石墨盘不仅表面更为干净，而且，大大缩短了高温烘烤时间，节省了大量电能。 |
