一种真空蒸发镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201320746064.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN203754797U | 公开（公告）日 | 2014-08-06 |
| 申请公布号 | CN203754797U | 申请公布日 | 2014-08-06 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 毛念新;严仲君;黄翔鄂;王新征 | 申请（专利权）人 | 上海嘉森真空科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人 | 金碎平 |
| 地址 | 201812 上海市嘉定区曹安路3652号6栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空蒸发镀膜装置，包括真空室，所述真空室内设有蒸发源和基片，所述基片的被镀一面在蒸发源之上，其中，所述基片固定在可水平往复运动的金属板上；所述真空室的顶部开设有冷却气氛入口,所述冷却气氛入口的一侧通过调节阀与冷却气体气源相连接，另一侧伸入真空室并设置有导气装置。本实用新型提供的真空蒸发镀膜装置，将基片固定在可水平往复运动的金属板上，从而保证镀膜的均匀性，有效避免散热不均匀或冷却过快导致基片损坏，提高产品合格率；通过在真空室的顶部开设冷却气氛入口，采用气体冷却的方式，进一步简化真空室内机械结构并能实时监测基片背后的金属板的温度即基片的表面温度。 |
