一种微波等离子辅助的溅射光学成膜方法
基本信息
| 申请号 | CN202010021521.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111074225A | 公开（公告）日 | 2020-04-28 |
| 申请公布号 | CN111074225A | 申请公布日 | 2020-04-28 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/10;C23C14/08 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 毛念新;黄翔鄂;严仲君 | 申请（专利权）人 | 上海嘉森真空科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海三方专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 吴玮 |
| 地址 | 201801 上海市嘉定区博学南路1015弄9号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及溅射成膜技术领域，具体来说是一种微波等离子辅助的溅射光学成膜方法，在溅射过程中，通过固态微波源激励等离子体实现膜层氧化，以提高膜层折射率的稳定性。本发明优选地采用工业微波频率为2450MHz的固态微波源，相对于使用RF射频激励等离子体的方式其具有以下优点：使用频率提高很大，RF射频频率为13.56M Hz，而微波频率为2450M Hz，使得氧气在真空腔室内活化的效率大大提高；不需要使用大功率射频电源，或使用多个射频氧化源，大幅降低设备成本；膜层折射率稳定性大幅提高，镀膜产品品质、良品率提高；采用矩形谐振腔的设计，使谐振腔内微波谐振腔模式数取得最大值，提高微波场的均匀性。 |
