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一种微波等离子溅射光学镀膜机

基本信息

申请号	CN202020041420.5	申请日	-
公开（公告）号	CN212051629U	公开（公告）日	2020-12-01
申请公布号	CN212051629U	申请公布日	2020-12-01
分类号	C23C14/35(2006.01)I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	毛念新;黄翔鄂;严仲君	申请（专利权）人	上海嘉森真空科技有限公司
代理机构	上海三方专利事务所（普通合伙）	代理人	吴玮
地址	201801上海市嘉定区博学南路1015弄9号
法律状态	-

摘要

本实用新型涉及溅射成膜技术领域，具体来说是一种微波等离子溅射光学镀膜机，包括一圆形的真空室，真空室的半周的环向内侧依次间隔设置有若干靶材，在所述的真空室的另一半周的中部设有微波磁控管组件，所述的微波磁控管组件包括固态微波源、调谐器和定向耦合器波导。本实用新型结构简洁、新颖，选择合理的靶材及其设置位置，通过独特设计的微波磁控管组件实现对其激励，使用频率提高很大，使得氧气在真空腔室内活化的效率大大提高；不需要使用大功率射频电源，或使用多个射频氧化源，大幅降低设备成本；膜层折射率稳定性大幅提高，镀膜产品品质、良品率提高；采用矩形谐振腔的设计，使谐振腔内微波谐振腔模式数取得最大值，提高微波场的均匀性。