一种等离子体增强清洗装置及清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN202111681333.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114438441A | 公开（公告）日 | 2022-05-06 |
| 申请公布号 | CN114438441A | 申请公布日 | 2022-05-06 |
| 分类号 | C23C14/02（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 曹时义;王俊锋;袁明 | 申请（专利权）人 | 广东鼎泰高科技术股份有限公司 |
| 代理机构 | 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人 | 侯柏龙 |
| 地址 | 523071广东省东莞市厚街镇赤岭工业一环路12号之一2号楼102室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子体增强清洗装置，用于清洗待处理产品，包括真空腔室、等离子体发生器、安装部、脉冲偏压电源，真空腔室具有进气口和出气口，离子体发生器包括呈空腔的本体部，本体部具有上部和下部，上部和下部相对设置且均设有若干镂空部；安装部伸入所述真空腔室内以供等离子体发生器进行安装；脉冲偏压电源的正极与真空腔室电连接形成阳极，脉冲偏压电源的负极与等离子体发生器电连接。该等离子体增强清洗装置能形成伞状辉光等离子体，增强上下轰击，提高对异型治具、大钻、PCB特刀、深刀槽刀具等产品的清洁能力，可进行横向和纵向的深度辉光清洗，整体提升产品各个面的清洗和活化效果。本发明还提供一种清洗方法。 |
