一种提升应力释放效果的大尺寸碳化硼陶瓷制备方法和设备
基本信息
申请号 | CN202111557686.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114180966A | 公开(公告)日 | 2022-03-15 |
申请公布号 | CN114180966A | 申请公布日 | 2022-03-15 |
分类号 | C04B35/563(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;B28B3/04(2006.01)I;B28B17/00(2006.01)I | 分类 | 水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料〔4〕; |
发明人 | 田鑫;徐涛;伊恒彬;张莹;王婷婷;常艳杰 | 申请(专利权)人 | 辽宁伊菲科技股份有限公司 |
代理机构 | 安徽中辰臻远专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 刘朝琴 |
地址 | 125208辽宁省葫芦岛市东戴河新区A区燕山路东段11号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种提升应力释放效果的大尺寸碳化硼陶瓷制备方法和设备,本发明通过添加到B4C陶瓷粉料中能够有效改善B4C陶瓷的致密性、强度、断裂韧性等性能指标,从而增加了陶瓷内部应力释放的效果,并降低整体材料的成型工艺难度,B4C陶瓷原料粉料粒度分布均匀,粉体颗粒度粒径适中,制备样品致密性好,产品硬度可达31‑32GPa,弯曲强度500‑520MPa,断裂韧性5.8‑6.0MPa·m1/2。陶瓷内部应力释放效果得到明显改善,由于在B4C陶瓷中加有TiB2成分,所以提高了B4C陶瓷的致密度、硬度、弯曲强度、断裂韧性,因此增加了陶瓷内部应力释放的效果,经过试验,产品的防护性能显著提高。 |
