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光学显示装置的制作方法

基本信息

申请号 CN202110768895.3 申请日 -
公开（公告）号 CN113488603A 公开（公告）日 2021-10-08
申请公布号 CN113488603A 申请公布日 2021-10-08
分类号 H01L51/56（2006.01）I;H01L51/52（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I 分类 基本电气元件;
发明人 施宏欣 申请（专利权）人 业成科技（成都）有限公司
代理机构 成都希盛知识产权代理有限公司 代理人 杨冬梅;张行知
地址 611730四川省成都市高新区西区合作路689号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种光学显示装置的制作方法，首先以物理气相沉积法于一显示层上正向形成一第一无机氧化物膜，接着以物理气相沉积法于第一无机氧化物膜上斜向形成至少一层第二无机氧化物膜，再来以物理气相沉积法于第二无机氧化物膜上正向形成一第三无机氧化物膜。最后，以物理气相沉积法于第三无机氧化物膜上依序斜向形成至少一层第四无机氧化物膜与至少一层第五无机氧化物膜，以于显示层上形成圆偏光层。由于圆偏光层是以物理气相沉积层所形成，所以不受应力累积的影响，当设于可挠性基板上时，不须考虑多重弯曲对称轴的影响。