薄膜沉积装置及系统
基本信息
| 申请号 | CN201821225981.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209178473U | 公开（公告）日 | 2019-07-30 |
| 申请公布号 | CN209178473U | 申请公布日 | 2019-07-30 |
| 分类号 | C23C16/27（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘金章; 杨欣泽 | 申请（专利权）人 | 北京蜃景光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 黄彩荣 |
| 地址 | 100000 北京市海淀区中关村大街甲38号1号楼B座16层089号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了薄膜沉积装置及系统，涉及薄膜沉积技术领域。本实用新型提供的薄膜沉积装置包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件。沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构，升降机构使沉积室升降，沉积室能够与水平底座密封连接并围成密封的沉积空间。沉积室设置有第一进气口和第二进气口，混气组件与第一进气口密封连接，抽真空组件与第二进气口密封连接。加热组件包括均位于沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱。本实用新型还提供一种包括薄膜沉积装置的薄膜沉积系统。本实用新型提供的薄膜沉积装置及系统装配方便，具有良好的沉积速度和均匀性，能够保证金刚石薄膜产品的质量，也能够保证电热丝的使用寿命。 |
