一种靶材冷却装置
基本信息
| 申请号 | CN201721848656.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208104526U | 公开（公告）日 | 2018-11-16 |
| 申请公布号 | CN208104526U | 申请公布日 | 2018-11-16 |
| 分类号 | C23C14/32 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 严佐毅;刘文卿;张龙;张丽 | 申请（专利权）人 | 深圳金美新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京挺立专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 李鑫 |
| 地址 | 安徽省淮南市寿县新桥国际产业园新桥大道东侧幸福大道北侧创凯科技园内3号研发楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及磁控溅射领域，主要涉及一种靶材冷却装置，包括靶材和冷却靶座，所述冷却靶座包括冷却腔，所述冷却腔上壁为冷却背板用于放置所述靶材，所述冷却腔两端分别设置有冷却介质入口和冷却介质出口，所述冷却腔内上下壁设有若干彼此交错且间隔设置的导流板，使所述冷却腔内部空间形成曲折连通的冷却介质流道，这种结构的冷却靶座可以提高冷却背板的换热面积，同时在来回曲折的流动过程中，冷却介质湍动程度大幅提高，强化冷却介质与靶座之间的传热，从而急速降低靶材底座的温度。 |
