一种双面往返连续真空镀膜设备

基本信息

申请号 CN201811519640.8 申请日 -
公开(公告)号 CN109402598A 公开(公告)日 2019-03-01
申请公布号 CN109402598A 申请公布日 2019-03-01
分类号 C23C14/56 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 严佐毅;刘文卿 申请(专利权)人 深圳金美新材料科技有限公司
代理机构 北京挺立专利事务所(普通合伙) 代理人 叶树明
地址 232200 安徽省淮南市寿县新桥国际产业园新桥大道东侧幸福大道北侧创凯科技园内3号研发楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种双面往返连续真空镀膜设备,包括真空腔体,所述真空腔体内设置有上收放卷机构、上传送机构、下传送机构及下收放卷机构;所述下收放卷机构及下传送机构分别位于上收放卷机构及上传送机构的下方,待镀膜材料从上或下收放卷机构开始依次经过上或下传送机构、下或上传送机构后回到下或上收放卷机构;与所述上传送机构及下传送机构处的待镀膜材料对应的位置处均设置有一套镀膜装置。本发明通过设置上下两个收放卷机构以及上下两个镀膜装置,能够在真空腔体内实现连续往返镀膜,极大地提高了工作效率。