卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201821266368.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208667836U | 公开（公告）日 | 2019-03-29 |
| 申请公布号 | CN208667836U | 申请公布日 | 2019-03-29 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I; C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 严佐毅; 刘文卿 | 申请（专利权）人 | 深圳金美新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京挺立专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 叶树明 |
| 地址 | 安徽省淮南市寿县新桥国际产业园新桥大道东侧幸福大道北侧创凯科技园内3号研发楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备，其包括真空腔体以及设置在所述真空腔体内放卷机构、收卷机构、冷却主鼓、放卷摆架和收卷摆架；所述放卷机构和收卷机构上下设置，所述放卷摆架和放卷机构连接，所述收卷摆架和收卷机构连接，所述冷却主鼓设置两个，均位于放卷机构和收卷机构之间且左右相对设置；卷料经放卷机构、放卷摆架后通过其中一个冷却主鼓实现一面的镀膜，再经另外一个冷却主鼓实现另外一面的镀膜，之后经收卷摆架和收卷机构进行收卷，实现一次性在薄膜两面同时镀上镀层。 |
