一种配比可控的大面积高通量复合薄膜合成装置
基本信息
| 申请号 | CN201822157390.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209194035U | 公开（公告）日 | 2019-08-02 |
| 申请公布号 | CN209194035U | 申请公布日 | 2019-08-02 |
| 分类号 | C23C14/04（2006.01）I; C23C14/28（2006.01）I; C23C14/50（2006.01）I; C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张晓军 | 申请（专利权）人 | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
| 代理机构 | 佛山市海融科创知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 陈志超 |
| 地址 | 518057 广东省深圳市福田区福田街道圩镇社区福田路24号海岸环庆大厦24层2401Ⅰ | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种配比可控的大面积高通量复合薄膜合成装置，本装置中设置了可移动的基片架，并在基片架和靶材之间设置了用于遮挡掩膜部分区域的挡板，在合成薄膜的过程中，利用挡板掩盖部分掩膜孔并移动基片架，调整基片架与靶材的相对位置和移动速度，从而调整辉羽中心在每个掩膜孔中停留的时间，不仅可以控制每个掩膜孔对应复合薄膜样品的厚度，克服了高通量PLD镀膜不均匀的缺陷，还可以通过控制每个掩膜孔在沉积不同材料时，辉羽中心停留的时间比，调整每个掩膜孔对应的基片样品中沉积的不同材料之间的配比，从而实现配比可控。 |
