石英掩膜结构体
基本信息
申请号 | CN201821909824.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN209412300U | 公开(公告)日 | 2019-09-20 |
申请公布号 | CN209412300U | 申请公布日 | 2019-09-20 |
分类号 | C23C14/04(2006.01)I; C23C16/04(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 代瑞娜; 张晓军; 李炳坤; 胡凯; 陈志强; 方安安; 姜鹭; 潘恒; 王岩; 王峻岭 | 申请(专利权)人 | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
代理机构 | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 余薇 |
地址 | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道朗山路28号通产新兴产业园3号厂房1楼北侧 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及薄膜加工技术领域,公开了一种石英掩膜结构体。所述石英掩膜结构体包括第一石英掩膜框、第二石英掩膜框以及石英掩膜板,所述第二石英掩膜框底部设置有收容所述石英掩膜板的凹槽,所述第一石英掩膜框设置有多个基底孔,所述第二石英掩膜框对应设置有多个正对所述第一石英掩膜板的基底孔的镀膜孔,用于通过脉冲激光对收容在所述基底孔内的基底进行镀膜。本方案可批量对小面积的基底进行镀膜而生成小面积的薄膜材料,避免了现有掩膜板在薄膜生长时边缘模糊效果和重影效果,同时也避免了现有沉积薄膜材料切割成小面积薄膜材料时容易被损坏和污染的情况,提升了薄膜制造的质量、操作便捷性和工作效率。 |
