一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111631540.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114153124A | 公开（公告）日 | 2022-03-08 |
| 申请公布号 | CN114153124A | 申请公布日 | 2022-03-08 |
| 分类号 | G03F7/004（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 付海超;赵洪祥;刘文昭;邹广辉;马乐 | 申请（专利权）人 | 中节能万润股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京中创博腾知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 李艳艳 |
| 地址 | 264006山东省烟台市经济技术开发区五指山路11号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物，所述的组合物包括聚合物I、聚合物II、光致产酸剂和电子级溶剂，所述的聚合物I和聚合物II结构式如下：a选自40‑70％，b选自1‑10％，c选自30‑60％；x选自1‑10％，y选自1‑10％，z选自80～95％；聚合物I和聚合物II的分子量选自1000‑30000Da，分子量分散系数选自1.0‑4.0。所述顶层涂层组合物具有较高的后退角，可减少光致产酸剂在浸没流体中的沥出。 |
