一种磁控溅射靶的屏蔽板调节装置

基本信息

申请号 CN201721022038.4 申请日 -
公开(公告)号 CN207227540U 公开(公告)日 2018-04-13
申请公布号 CN207227540U 申请公布日 2018-04-13
分类号 C23C14/35 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 尹忠乐;李术杰;应世强 申请(专利权)人 广东南海农村商业银行股份有限公司桂城支行
代理机构 广州科粤专利商标代理有限公司 代理人 佛山市南海区晶鼎泰机械设备有限公司
地址 528200 广东省佛山市南海区狮山镇狮中村西工业区梁锦平的厂房自编1号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种磁控溅射靶的屏蔽板调节装置,包括屏蔽板和底座;所述屏蔽板的表面的中间部位设置有用于安装靶材的避空孔;在所述避空孔的外侧还设置有至少两个用于安装调节机构的安装孔;所述底座位于所述屏蔽板的敞口端的下方;所述调节机构是用于连接所述底座和屏蔽板的;所述调节机构包括支撑杆、压紧块、支撑块和定位压紧螺钉;所述支撑杆的一端与所述底座抵触,另一端伸出屏蔽板的表面;所述压紧块设置有用于安装定位压紧螺钉的预留孔;所述支撑块设置在所述屏蔽板的表面的内侧;所述压紧块从所述屏蔽板的表面外侧伸入屏蔽板的表面内侧、并与所述支撑块配合安装。本实用新型具有结构简单、连接点少、绝缘点少和安装便捷等优点。