一种具有自产生压力的降阻剂
基本信息
申请号 | CN201110176244.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102354542A | 公开(公告)日 | 2012-02-15 |
申请公布号 | CN102354542A | 申请公布日 | 2012-02-15 |
分类号 | H01B1/06(2006.01)I;H01R4/66(2006.01)I;C09K17/02(2006.01)I;C09K17/40(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 何华林;陈国清 | 申请(专利权)人 | 中国农业银行股份有限公司成都武侯支行 |
代理机构 | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 成都桑莱特科技股份有限公司;四川桑莱特智能电气设备股份有限公司 |
地址 | 610000 四川省成都市武侯区武兴三路28号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种具有自产生压力的降阻剂,降阻剂主要由下述重量份配比的组分组成:导电盐1-20份??主剂20-60份??辅剂20-60份,所述的主剂为碳酸盐或碳酸氢盐,而所述的辅剂为硫酸氢盐、氨基磺酸、甲基二磺酸中的任意一种。本发明的有益效果是:生产运输时不会产生灰尘,可简化施工程序,使用方便,降低成本,并大大提高施工进度,并可随时补加;由于不凝固,使用后不残留,接地极可以重复使用。 |
