一种高分子沉积设备的气体扩散结构及设备
基本信息
| 申请号 | CN202011457514.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112593209A | 公开（公告）日 | 2021-04-02 |
| 申请公布号 | CN112593209A | 申请公布日 | 2021-04-02 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孙浩;李牧词;茆胜 | 申请（专利权）人 | 深圳市智联汇网络系统企业（有限合伙） |
| 代理机构 | 上海洞鉴知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘少伟 |
| 地址 | 518000广东省深圳市南山区粤海街道科丰路2号特发信息港D栋一楼东侧2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明为涉及一种高分子沉积设备的气体扩散结构，包括：沉积模块，进气模块，以及出气模块，沉积模块包括用以放置待加工的工件的支架；进气模块设置在所述沉积模块的一侧，包括进气管以及进气扩散板，所述进气扩散板分布有众多扩散孔，所述扩散孔正对于所述支架；出气模块设置在所述沉积模块的另一侧，与所述进气模块相对应，包括出气导向板以出气管；所述出气导向板上分布有众多导向孔，所述导向孔的方向与所述扩散孔的进气方向相垂直。有益效果是：该扩散结构使气体进入沉积腔体后均匀分布，提高了成膜的均匀性，增加了原材料的使用效率；出气方向与进气方向垂直，使气体在沉积腔体中形成了环形路径，增加了原材料的使用效率。 |
