一种清洗设备
基本信息
| 申请号 | CN202010411894.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111468464A | 公开（公告）日 | 2020-07-31 |
| 申请公布号 | CN111468464A | 申请公布日 | 2020-07-31 |
| 分类号 | B08B3/08(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 张广雨;张慧 | 申请（专利权）人 | 北京亦盛精密半导体有限公司 |
| 代理机构 | 北京东方芊悦知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 北京亦盛精密半导体有限公司 |
| 地址 | 100176北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号8幢厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种清洗设备，包括清洗槽、位于清洗槽内部的底盘、位于底盘正上方的超声波清洗器、过滤罐、第一阀门、第二阀门、位于过滤罐上方的硬管，底盘与清洗槽的槽底之间安装有多个支撑板，超声波清洗器的下部设置有槽口朝下设置的超声波清洗槽，超声波清洗槽的槽底中央设置有第一贯穿孔，超声波清洗器的上部安装有与第一贯穿孔相连通的管接头，硬管与管接头之间设置有软管，过滤罐包括罐体、设置在罐体内部的滤芯、安装在罐体灌口处的罐盖。该清洗设备的操作简单，清洗方便，能够有效对硅电极在小孔加工过程中形成的半成品进行彻底清洗，避免硅泥等杂质滞留在小孔内壁。 |
