一种用于化学机械抛光液的复合磨料
基本信息
| 申请号 | CN201120475848.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202322710U | 公开（公告）日 | 2012-07-11 |
| 申请公布号 | CN202322710U | 申请公布日 | 2012-07-11 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;C08J5/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 张磊;邹宇琦;曹凤凯;刘献伟 | 申请（专利权）人 | 上海施科特光电材料有限公司 |
| 代理机构 | 上海硕力知识产权代理事务所 | 代理人 | 上海施科特光电材料有限公司 |
| 地址 | 201403 上海市奉贤区航南公路3958号4幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种用于化学机械抛光液的复合磨料，该复合磨料包含聚苯乙烯内核以及包覆在所述聚苯乙烯内核外的无定型二氧化硅壳层，所述复合磨料的粒径为100-500nm。该复合磨料可以应用于化学机械抛光液，尤其是蓝宝石衬底材料的抛光液，有助于提高抛光速率以及减少抛光后的表面粗糙度。 |
