石墨盘的清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN202110649489.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113333374A | 公开（公告）日 | 2021-09-03 |
| 申请公布号 | CN113333374A | 申请公布日 | 2021-09-03 |
| 分类号 | B08B3/08（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I;F26B25/06（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 高默然;虞鑫达;郑锦坚;毕京锋;操晓敏;范伟宏;邬元杰;张成军;曾家明;房延振 | 申请（专利权）人 | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海思捷知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘畅 |
| 地址 | 361012福建省厦门市海沧区兰英路99号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种石墨盘的清洗方法，包括：提供一石墨盘，所述石墨盘的表面具有待去除的沉积物，所述沉积物包括高Al组分的化合物；以及，采用碱性溶液清洗、Cl2氛围下高温烘烤、HCl氛围下高温烘烤以及H2氛围下高温烘烤的方法中的至少两种去除所述沉积物。本发明的技术方案能够有效去除石墨盘表面的包括高Al组分的化合物的沉积物，避免影响后续生长的外延质量，进而避免影响发光二极管的性能。 |
