一种低表面漏电流的探测器及其制作方法
基本信息
申请号 | CN202111089548.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113540263A | 公开(公告)日 | 2021-10-22 |
申请公布号 | CN113540263A | 申请公布日 | 2021-10-22 |
分类号 | H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/103(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 杨奕;缪笛;鄢静舟;薛婷 | 申请(专利权)人 | 福建慧芯激光科技有限公司 |
代理机构 | 泉州市文华专利代理有限公司 | 代理人 | 陈云川 |
地址 | 362100福建省泉州市惠安县螺阳镇城南工业区站前路19号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种低表面漏电流的探测器,包括InP衬底,在InP衬底上依次生长有通过蚀刻形成的隔离台与P台。所述衬底、隔离台与P台的上表面以及隔离台、P台的侧面依次生长有第一钝化层与第二钝化层。所述隔离台的上表面设有穿过所述第一钝化层与第二钝化层的n型接触金属环,在所述P台上表面设有穿过所述第一钝化层与第二钝化层的p型接触金属环。本发明用复合钝化层(复合钝化层由下至上为半绝缘InP或InAlAs与介质膜钝化层)代替传统介质膜钝化层对探测器进行钝化,减少了钝化层与半导体界面之间的缺陷与界面态,有利于减小器件的漏电流。 |
