一种用于管状靶材的真空烧结系统
基本信息
| 申请号 | CN202210265521.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114623679A | 公开（公告）日 | 2022-06-14 |
| 申请公布号 | CN114623679A | 申请公布日 | 2022-06-14 |
| 分类号 | F27B5/04（2006.01）I;F27B5/14（2006.01）I;F27B5/18（2006.01）I;F27D7/06（2006.01）I | 分类 | 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉〔4〕; |
| 发明人 | 唐智勇 | 申请（专利权）人 | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 代理机构 | 湖南正则奇美专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 410000湖南省株洲市天元区天易科技城自主创业园一期A5栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于管状靶材的真空烧结系统，第一压盖设置有第一模具，第二压盖设置有第二模具，第一模具与第二模具配合用于成型，第一保温壳与第二保温壳形成的加热腔内设置有加热装置；第一压盖设置在机架上，第二压盖固定连接在加压装置的输出端，加压装置固定连接在机架上；加压装置包括恒压装置和反馈装置，恒压装置用于提供稳定压力，反馈装置用于提供附加压力；通过反馈系统以位置为依据，当第一模具逐渐靠近第二模具时，反馈装置提供的附加压力逐渐变大，使素坯所受压力在烧结过程为逐渐变大，较小的初始力避免过早得出较大的晶粒，靶材烧结过程中各部位的累积受力的差异缩小，从而使各部位的晶粒的大小趋于均匀。 |
