电解法制备高活性氧化铟的方法、ITO靶材的制备方法
基本信息
申请号 | CN202210031235.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114540826A | 公开(公告)日 | 2022-05-27 |
申请公布号 | CN114540826A | 申请公布日 | 2022-05-27 |
分类号 | C25B1/01(2021.01)I;C25B1/50(2021.01)I;C01G15/00(2006.01)I;C04B35/453(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;C04B35/626(2006.01)I | 分类 | 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕; |
发明人 | 唐安泰 | 申请(专利权)人 | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
代理机构 | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 412000湖南省株洲市天元区天易科技城自主创业园一期A5栋 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明所提供了一种电解法制备高活性氧化铟的方法、ITO靶材的制备方法,电解法制备高活性氧化铟的方法包括以下步骤:(1)金属铟为阳极,导电基体为阴极,硝酸铵水溶液为电解液进行电解,得到氢氧化铟沉淀;温度控制在25~45℃之间,电流密度为15~20A/dm2,电压为0.35~0.45V;(2)将氢氧化铟沉淀水洗、压滤、干燥,得氢氧化铟;(3)煅烧。ITO靶材的制备方法,包括以下步骤:1)采用上述方法制备氧化铟;2)将氧化铟及氧化锡混匀,加水球磨,喷雾干燥造粒,得粉料;3)将粉料进行冷等静压成型;4)气氛烧结。本发明先通过优化的制备工艺,制备出高活性氧化铟粉末,再将该高活性氧化铟与氧化锡经混合球磨、造粒成型、气氛烧结可得到高密度ITO靶材。 |
