一种IGBT及其制作方法

基本信息

申请号 CN201510784090.2 申请日 -
公开(公告)号 CN106711205B 公开(公告)日 2021-12-21
申请公布号 CN106711205B 申请公布日 2021-12-21
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 滕渊;朱阳军;卢烁今;田晓丽 申请(专利权)人 上海联星电子有限公司
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 王宝筠
地址 200120上海市浦东新区金桥路939号宏南投资大厦1513室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明实施例公开了一种IGBT及其制作方法,该IGBT包括:半导体衬底、位于半导体衬底第一表面的正面结构和终端结构、位于半导体衬底第二表面的背面结构,和位于半导体衬底侧面的隔离层,隔离层覆盖半导体衬底的侧面、终端结构的侧面和背面结构的侧面,使得本发明实施例所提供的IGBT中,其PN结不会出现在IGBT的侧面,从而避免了IGBT在其背面的PN结反偏时,其载流子从PN结侧面边缘流出,产生的漏电现象,提高了IGBT的反向阻断能力。而且,本发明实施例所提供的IGBT制作方法,不需要长时间的热扩散,加工时间较短,对IGBT的生产效率影响不大。